中微公司评级买入钨填充CVD设备获阶段性进展，薄膜刻蚀与沉积新产品将进入收获期

股价表现

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主要股东(%)
上海创业投资有限公司 16 资料来源：公司公告，聚源，中银证券
以 2022 年 3 月 30 日收市价为标准

相关研究报告
《中微公司：盈利弹性已经来临，新产品进入 收获期》20220125
《中微公司：单季订单成倍增长，刻蚀市场地 位将持续提升》20211029
《中微公司：刻蚀设备收入增长 84%，公司新 签订单增速均超 70%》20210825

支撑评级的要点

ICP 刻蚀交付腔体数量超预期。21 年产品付运腔体数量为 491 腔，同比增长 66.4%。其中，CCP 刻蚀机付运 298 腔，同比增长 40%；ICP 刻蚀机付运 134 腔，同比增长 235%，取得突 破性进展。而对于 MOCVD 设备销售，公司去年新发布的 MiniLED MOCVD 设备 Prismo UniMax 年底订单超 100 腔，到今年 3 月底订单累计已超 180 腔。

刻蚀设备高速成长，去年总订单翻倍增长。公司 21 年实现营收同比增长 37%，增速较前 两年大幅提升。其中刻蚀设备收入 20.04 亿元，占比 64%，同比增长 55%；MOCVD 设备收 入 5.03 亿元，占比 36%，同比增长 1.53%。公司 21 年新签订单金额同比增长 90.5%达 41.3 亿元，保障 2022 年收入延续高增长趋势。

产品结构优化，盈利能力大幅提升。去年专用设备的毛利率增加 4.88 个百分点至 42.20%，其中 MOCVD 设备的毛利率大幅提升 18.65 个百分点至 33.77%；刻蚀设备仍保持 44.32%的较 高水平。同时，盈利能力较高的刻蚀收入比重，较去年提升 7 个百分点至 64%，公司的收 入结构明显改善。

CCP 等离子体刻蚀进入先进的 5 纳米芯片生产线和下一代的试生产线上。研制成功 5 纳米
的刻蚀设备并完成在先进逻辑芯片生产厂家的评估，并实现销售。完成 3 纳米刻蚀机 Alpha 原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估。

公司 ICP 刻蚀设备已经逐步趋于成熟。Primo nanova® ICP 刻蚀产品已经在超过 15 家客户的 生产线上进行 100 多个 ICP 刻蚀工艺的验证。2021 年 3 月，公司研发并推出的具有高输出 率特点的双反应台 ICP 刻蚀设备 Primo Twin-Star®刻蚀设备，已经在国内领先的客户生产线 上完成认证，并收到更多国内客户的订单。

把握科技前沿，IC 工艺设备产品平台从薄膜图形化工具辐射到薄膜沉积和外延生长设备。

具体包括薄膜刻蚀：CCP、ICP、ALE，薄膜沉积：LPCVD、EPI、ALD；第三代半导体：硅 基氮化镓及碳化硅功率器件专用的外延设备。

（1）钨填充 LPCVD 设备取得阶段性进展。应用于金属互联的 CVD 钨制程设备能力已能够 满足客户工艺验证的需求，产品正与关键客户对接验证。基于金属钨 LPCVD 设备，公司正进一步开发 CVD 和 ALD 设备。

（2）SiGe Epi 设备完成设计方案，进入样机制造阶段。2021 年组建 EPI 设备研发团队，通 过基础研究和采纳关键客户的技术反馈，已形成自主知识产权及创新的预处理和外延 反应腔的设计方案。目前公司 EPI 设备已进入样机设计、制造和调试阶段，以满足客 户先进制程中 SiGe 外延生长工艺的电性和可靠性需求。

（3）积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备市场。开发 GaN 功率器件量产应用 的 MOCVD 设备，目前已交付国内外领先客户进行生产验证。启动了应用于碳化硅功 率器件外延生产设备开发，将进一步丰富公司的产品线。

盈利预测及评级

鉴于公司刻蚀设备尤其是 ICP 刻蚀 21 年订单大幅增长，且 MOCVD 设备订单也超预期增长，我们上调 22-24 年净利润至 11.26/12.90/15.17 亿元，维持“买入”评级。

评级面临的主要风险

晶圆厂扩建不及预期，零部件紧缺导致设备交付延迟，国际地缘政治摩擦的不确定。

投资摘要

21 年销售业绩亮眼，营收端动力充足

公司 21 年实现营收 31.08 亿元，同比增长 37%，增速较前两年大幅提升。其中:

刻蚀设备：收入 20.04 亿元，占比 64%，同比增长 55%；

MOCVD 设备：收入 5.03 亿元，占比 36%，同比增长 1.53%。

21 年产品付运腔体数量为 491 腔，同比增长 66.4%，主营产品销售成绩亮眼，助力营收端的高速增长：

刻蚀设备：CCP 刻蚀机付运 298 腔，同比增长 40%；ICP 刻蚀机付运 134 腔，同比增长 235%，取

得突破性进展；

MOCVD 设备：公司新发布的 MiniLED MOCVD 设备 Prismo UniMax 在半年内已获得国内多家领先客

户的合计超 100 腔的批量订单，表明公司产品在业内的高度认可。

21 年新签订单金额 41.3 亿元，同比增长 90.5%，营收端的动力充足，后续有望保持强劲增长态势。

图表 1. 中微公司近 3 年的营收及新签订单

资料来源：公司公告，中银证券

图表 2. 中微公司的产品交付数量

资料来源：公司公告，中银证券

盈利能力大幅提升，收入结构改善

公司 21 年的扣非净利润显著增长 1291%，专用设备的毛利率增加 4.88 个百分点至 42.20%，产品整体

毛利的显著改善带动公司盈利能力的大幅提升，其中：

MOCVD 设备：毛利率大幅提升 18.65 个百分点至 33.77%，主要因为 MOCVD 的收入结构改善，新

推出的 MiniLED 量产型 MOCVD 设备 Prismo UniMax 的毛利较高。

刻蚀设备：仍保持 44.32%的较高水平，收入比重较去年提升 7 个百分点至 64%，带动整体盈利水

平提升。

图表 3. 中微公司的毛利率情况

资料来源：公司公告，中银证券

图表 4. 中微公司的收入结构情况

资料来源：公司公告，中银证券

国产刻蚀龙头地位稳固，积极拓展多维优势

刻蚀设备继续保持领先优势。据公司公告，其 CCP 刻蚀产品在国内外一线客户的逻辑和存储芯片制 造产线上持续提升市场占有率，在部分关键客户市场占有率已进入前三位甚至前二位；同时，公司 的 ICP 刻蚀设备在 2021 年通过诸多客户的工艺认证并获得重复订单。

CCP 刻蚀：（1）在先进逻辑电路方面，成功取得 5nm 及以下逻辑电路产线的重复订单；（2）在存储电路方面，在 64 层及 128 层 3DNAND 产线得到广泛应用。（3）公司新推出的 8 英寸晶圆 加工 CCP 刻蚀设备 Primo AD-RIE 200®可灵活配臵多达三个双反应台反应腔（即六个反应台），且 提供可升级至 12 英寸刻蚀设备系统的灵活解决方案，进一步增强公司的 CCP 产品组合实力。

ICP 刻蚀：（1）公司的 Primo nanova® ICP 刻蚀产品已经在超过 15 家客户的生产线上进行 100 多 个 ICP 刻蚀工艺的验证，截止 21 年 12 月底，已经顺利交付超 180 台反应腔，持续提升 ICP 刻蚀 的市场份额。（2）公司新推出的高输出率双反应台 ICP 刻蚀设备 Primo Twin-Star®已经在国内领 先客户的产线上完成认证，并收到更多国内客户的订单。（3）同样应用 ICP 技术的 8 英寸和 12 英 寸深硅刻蚀设备 Primo TSV200E®、Primo TSV300E®在先进系统封装、2.5 维封装和微机电系统芯片 生产线等成熟刻蚀市场继续获得重复订单的同时，也开始在 3D 芯片等新兴市场的刻蚀工艺上得 到验证。

MOCVD 设备的产品组合大大改善。（1）公司的蓝光照明 Prismo A7®以及深紫外 LED 外延片 Prismo HiT3®产品持续服务客户。（2）新发布的高性能 Mini LED 量产的 MOCVD 设备 Prismo UniMax ®可同时加工 164 片 4 英寸或 72 片 6 英寸外延片，推出半年内已收到来自国内多家领先客户的批量订单，合计超过 100 腔。（3）正开发针对 Micro LED 应用的专用 MOCVD 设备。（4）积极布局用于功率器件应用的第三 代半导体设备，开发 GaN 功率器件量产应用的 MOCVD 设备，目前已交付国内外领先客户进行生产 验证。（5）启动应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发。

薄膜沉积设备研发取得阶段性突破。（1）公司的应用于金属互联的 CVD 钨制程设备能力已能够满足 客户工艺验证的需求，产品正与关键客户对接验证。（2）正进一步开发 CVD 和 ALD 设备，实现更 高深宽比和更小的关键尺寸结构的填充，以满足高端逻辑器件和先进存储芯片的需求。（3）组建 EPI 设备研发团队，已形成自主知识产权及创新的预处理和外延反应腔的设计方案，进入样机的设计、制 造和调试阶段，以满足先进制程中锗硅外延生长工艺的电性和可靠性需求。

积极践行三维发展战略，为持续增长创造窗口。公司正开发的 LPCVD 和 Epi 已取得良好进展，并筹 划开发 ALD、ALE 等设备，还启动用于制造 Micro LED、功率器件等生产的 MOCVD 设备的开发，同时 通过参股上海睿励进行量测领域的外延，参股山东天岳进行半导体材料领域的外延，参股沈阳拓荆 进行 PECVD 领域的外延，形成半导体（刻蚀、沉积、量测、材料）和泛半导体（MOCVD）等平台化 布局，打造较饱满的营收来源。

资料来源：公司公告，中银证券预测

资产负债表(人民币百万)

资料来源：公司公告，中银证券预测

主要比率 (%)

资料来源：公司公告，中银证券预测

资料来源：公司公告，中银证券预测

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评级体系说明

以报告发布日后公司股价/行业指数涨跌幅相对同期相关市场指数的涨跌幅的表现为基准：

公司投资评级：
买入：预计该公司股价在未来 6-12 个月内超越基准指数 20%以上；
增持：预计该公司股价在未来 6-12 个月内超越基准指数 10%-20%；
中性：预计该公司股价在未来 6-12 个月内相对基准指数变动幅度在-10%-10%之间；减持：预计该公司股价在未来 6-12 个月内相对基准指数跌幅在 10%以上；
未有评级：因无法获取必要的资料或者其他原因，未能给出明确的投资评级。

行业投资评级：
强于大市：预计该行业指数在未来 6-12 个月内表现强于基准指数；中性：预计该行业指数在未来 6-12 个月内表现基本与基准指数持平；弱于大市：预计该行业指数在未来 6-12 个月内表现弱于基准指数。

未有评级：因无法获取必要的资料或者其他原因，未能给出明确的投资评级。

沪深市场基准指数为沪深 300 指数；新三板市场基准指数为三板成指或三板做市指数；香港市场基准指数为恒生指数或 恒生中国企业指数；美股市场基准指数为纳斯达克综合指数或标普 500 指数。

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